基托組織面與基桩之間或附著體陰型部分與陽型部分之間均應留有0.3mm-lmm的間隙(剛性連接的形式除外)。根據上部結構鞍基承托區黏膜的厚度和緻密度，此間隙可略有差別。根據覆蓋式種植義齒的上部結構與基桩的連接形式，保留間隙有以下不同的方法：
(1)彈性連接且採用杆式附著體。在上部結構製作過程中，將一根輔助固位的銅絲置於杆與套槽之間，當上部結構完成後去掉銅絲，這就允許上部結構有垂直方向的平移和水準方向的轉動，其最大位移約為1mm。
(2)採用球扣式附著體或紐扣式附著體。這兩類附著體的彈性連接形式與杆式附著體彈性連接形式一樣，在附著體的陽型與陰型部分之間有一輔助固位的緩衝裝置，可留出約1mm的間隙，以保證在行使咀嚼功能時，種植基牙與黏膜能共同均勻分擔咬合力。
(3)釆用雙層冠附著體。在固定外冠之前，於內冠頂端置約1mm的襯墊物，當外冠固定後，去除襯墊物，使內外冠之間留有1mm的間隙。
(4)不需做雙層頂蓋。在工作模型的基桩代型上填約Imm厚的硬質材料，如石膏、人造石、恒久粘固粉等，待上部結構完成後，基托組織面與基桩之間自然留出間隙，或者按常規方法完成上部結構。初戴上部結構時，在緩衝上部結構基托組織面的基桩相應部位，或者在與基桩相對應的基托組織面襯墊彈性材料，如彈性塑膠、矽橡膠等，也可使之有約1mm的緩衝間隙。
(5)採用磁性固位附著體。在固定磁性固位體之前，在磁性固位體與銜鐵之間放置1~2層錫箔紙。在固位體固定後，去除錫箱紙，這時磁體與銜鐵之間則留下1rnn間隙。
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